ニーズに最適化した膜厚測定システム 薄膜計測を強力にサポート
分光干渉を利用した膜厚測定システムは，非接触・非破壊，簡便かつ高精度な膜厚測定が可能です．
誘電体，半導体など様々な膜材料の測定ができ，多層膜，屈折率傾斜膜，光学異方性膜など複雑な層構造の解析が可能で，広い膜厚レンジ（シングルnm 〜 数十μm）に対応できるなど多くの特長があります．
また，膜厚測定だけではなく，所望の波長領域（真空紫外：193 nm 〜 赤外：30μm）における光学定数（屈折率：n ，消衰係数：k ）のスペクトル測定が可能です．
テクノシナジーは，お客様のニーズに最適な膜厚測定システムを提案いたします．
テクノシナジーの膜厚測定システム
膜厚測定 製品ラインナップ
Product
光学膜厚測定システム，分光エリプソメーター，分光測定機器，光計測機器からスペクトル解析ソフトウエアまで，膜厚測定，分光計測を強力にサポートします．
膜厚測定 アプリケーション
Application
膜厚測定，分光測定，スペクトル解析の幅広い応用例をご覧ください．様々なサンプルに対する膜厚測定，分光測定，スペクトル解析に対応いたします．
膜厚測定 分析サービス
Service
30年以上に渡る分光計測，分光エリプソメトリーの豊富な実績から，最適な膜厚計測ソリューション，分光測定ソリューションを提供いたします．
徒然「光」基礎講座
分光エリプソメトリーなどの光学技術を基礎から解説
分光エリプソメトリーは，電磁波の基本的な性質の一つである「偏光」を利用した分光計測法です．サンプルに入射された光がサンプル表面で反射する際に生じる偏光変化を観測して，薄膜の膜厚，光学定数（屈折率：n ，消衰係数：k）を高感度・高精度に計測することができます．分光エリプソメトリーでは，膜材料の光物性に関する情報が得られることから，膜厚・光学定数測定にとどまらず，組成比，結晶度，表面粗さ，ドーパント濃度といった様々な光物性評価に応用されます．
