膜厚測定,分光測定,分光エリプソメトリー,スペクトル解析のテクノ・シナジー

膜厚測定・干渉分光法とは

干渉分光法とは

本講座は,干渉分光法を応用した膜厚測定について干渉の基礎から誘電関数モデルを使ったスペクトルフィッティング解析までを解説する入門講座です.

※ 本講座の全部または一部について無断で転載, 複写複製, 電子的装置への入力等は,ご遠慮願います.

はじめに

干渉分光法を使った膜厚測定は,非接触・非破壊,簡便かつ高精度な膜厚測定が可能です. 誘電体,半導体など様々な膜材料の測定ができ,広い膜厚測定レンジに対応できるなど多くの特長があります. また,干渉分光法では,膜厚測定だけではなく,測定波長領域における光学定数 (屈折率: n ,消衰係数: κ ) のスペクトルを測定することができます.
本講座では,膜厚測定や干渉分光法について基礎からやさしく解説します.

シリコン熱酸化膜の膜厚測定1
干渉分光法を使ったシリコン熱酸化膜の膜厚測定

目次

テクノシナジーの膜厚測定システム
膜厚測定 製品ラインナップ
膜厚測定 製品ラインナップ
Product
膜厚測定 アプリケーション
膜厚測定 アプリケーション
Application
膜厚測定 分析サービス
膜厚測定 分析サービス
Service
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